证券之星音讯，依据天眼查APP多个方面数据显现盛美上海（688082）新取得一项发明专利授权，专利名为“清洗基板的办法和设备”，专利申请号为CN4.8，授权日为2026年8月4日。
专利摘要：本发明提醒了清洗基板的办法和设备，该基板(1010)包含图画结构特征(4034)。清洗基板的办法有将基板放置在可以使基板旋转的基板坚持设备(1014)上；运送清洗液(1032)到基板上；当经过换能器(1004)向清洗液施加声能时，经过基板坚持设备以榜首速率旋转基板；当换能器没有向清洗液施加声能时，经过基板坚持设备以高于榜首速率的第二速率旋转基板。
今年以来盛美上海新取得专利授权21个，较去年同期增加了50%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研制方面投入了10.03亿元，同比增37.64%。
经过天眼查大数据剖析，盛美半导体设备（上海）股份有限公司共对外出资了16家企业，参加招投标项目183次；产业线条；此外企业还具有行政许可32个。
证券之星估值剖析提示盛美上海行业界竞争力的护城河优异，盈余才能杰出，营收成长性优异，归纳基本面各维度看，估值偏高。更多
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